DUV（Deep Ultraviolet）光刻机是制造5纳米芯片的核心设备之一，它利用紫外线照射在光刻胶上，通过栅线和透镜形成的光学系统进行投影光刻，进而将芯片上的微小线路、结构图案投射到硅片上。以下是DUV光刻机生产5纳米芯片的主要步骤：
1. 设计芯片结构: 首先，芯片的设计师需要设计出5纳米级的芯片结构，并使用EDA（Electronic Design Automation）软件进行设计，生成一个GDSII格式的芯片电路图，该格式可被DUV光刻机读取和处理。
2. 制造掩模: 掩模是在光刻胶上形成的光学图案，其制作成本非常高。制造掩模时需要使用聚焦离子束系统的电子束照射芯片原片上，形成图案后用化学蚀刻法来制造掩模。
3. 涂覆光刻胶: 将硅片放在DUV光刻机上，使用喷涂机喷涂一层光刻胶，并通过旋转均匀分布在硅片表面。光刻胶是一种光敏聚合物，它能够在一定程度上阻止紫外线照射。
4. 照射: 将掩模放置在硅片上，被照射区域的光刻胶分子发生化学反应，变得更加坚硬，形成了一个比掩模小的、如实反映了电路设计的图案。
5. 蚀刻: 在照射后，将硅片放在一种化学液体中进行蚀刻，蚀刻液会将未被光刻胶保护的硅铺层蚀去，形成一层图案。
6. 清洗和检查: 在蚀刻后，需要将硅片进行清洗，并进行透过电子显微镜或其他检查手段验证生产是否符合要求。
整个光刻过程的精密与迅速性都要求光刻机具备高精度、高品质的透镜、光源、光源集成系统和控制系统等设备，以及可靠的自动化控制程序。
