在euv光刻机中，最难制造的部分可以说是零件中的光学反射镜。euv光刻机使用的是极紫外光(Extreme Ultraviolet)作为光源，该波长在13纳米左右，比传统的光刻机使用的193纳米的紫外光波长要短很多。这就需要使用特殊材料来制造能够反射极紫外光的镜子。
然而，极紫外光具有很高的能量，容易引起材料的氧化和热膨胀等问题。为了解决这些问题，euv光刻机的反射镜需要使用多层膜（Multilayer Coating）技术，即在镜子表面涂覆多层特殊材料来增加反射效果。这些特殊材料通常是稀土化合物或过渡金属化合物。然而，稀土元素在自然界中很稀少，制造这样的反射镜需要解决材料供应和处理的问题。
此外，由于euv光刻机的光学系统需要高度稳定和高精度，因此制造高质量的反射镜需要极高的工艺要求和精密度。这也使得制造过程更加困难和复杂，因此可以说光学反射镜是euv光刻机中最难制造的部分之一。
EUV光刻机最难造的部分是光学系统。由于EUV光波长只有13.5纳米，比传统的光刻机要短得多，因此需要使用特殊材料和设计来实现光学系统。
此外，EUV光刻机需要使用多层反射镜来将光线聚焦到极小的点上，这也增加了光学系统的复杂度和难度。光学系统的精度和稳定性对于EUV光刻机的性能和稳定性至关重要，因此是设计和制造中最具挑战性的部分。
