国家研发光刻机的原因可能因人、因地、因事而异，但总的来说，国家不研发光刻机的主要原因还是经费和技术。
目前全球光刻机领域主要是由ASML等国际企业垄断，其技术和经费实力非常强大，一般国家或地区的技术和经济实力难以与之匹敌，因此研发成本和技术门槛也相对较高。
所以，国家可能会选择在其他领域进行研发投资，或者寻找与其他国家进行国际合作，在使用上市场上购买光刻机等等。
虽然目前国家不研发光刻机，但是近年来我国在集成电路领域取得了不俗的成绩，取得了很多技术突破，不断提升产业水平，相信在未来的不久，国家会加大对光刻机领域的投入和研发，打造出属于自己的光刻机品牌。
目前国内光刻机厂商的技术水平还无法与国际厂商相比，主要是由于以下几个方面的原因：
1、国内光刻机厂商技术积累不足。虽然在研发和制造光刻机方面国内企业已经进行了多年的探索和尝试，但是国内企业的技术积累与国际厂商相比仍然存在明显差距。
2、光刻机技术难度大，研发周期长。光刻机是一种高精密、高技术含量的设备，其研发和制造周期通常需要十年以上，需要庞大的研发团队和巨大的资金投入，国内企业在这方面也存在着困难。
3、光刻机需要掌握高精密的制造工艺。光刻机是半导体制造过程中非常核心的设备，对精密度要求极高，制造难度大，需要掌握非常高超的制造工艺和技术。
