暂时没有新突破。
我国目前光刻机最新的是上海微电子去年底通过技术检测和验证的28纳米duv光刻机,预计今年可以量产。对于euv极紫外光光刻机,目前暂时还没有新的突破,像中科院的euv光源、长春国科精密的曝光系统、长春光机所的镜头组目前还无法达到euv等级。
暂时没有新突破。
我国目前光刻机最新的是上海微电子去年底通过技术检测和验证的28纳米duv光刻机,预计今年可以量产。对于euv极紫外光光刻机,目前暂时还没有新的突破,像中科院的euv光源、长春国科精密的曝光系统、长春光机所的镜头组目前还无法达到euv等级。
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