硅的化学提纯工艺主要有氧化-还原法和氯化法。
氧化-还原法是将硅粉末和氯化铝混合,用氢气还原制得高纯度硅;氯化法是将硅和氯气在高温下反应,生成四氯化硅,再用氢气还原。
两种工艺均需采用高温反应,而氧化-还原法所需的氯化铝较易获得,工艺简单,成本低,因此更为广泛地应用于工业生产中。
提纯方式主要有:精馏法、固体吸附法。
精馏法原理:因为四氯化硅常温下是液体,沸点不高,容易挥发,可以用分馏的方法把它分离出去。
吸附法:基于化合物中各组分化学键极性来吸附分离。SiCl4是无电偶极矩的对称分子。
硅的化学提纯工艺主要有氧化-还原法和氯化法。
氧化-还原法是将硅粉末和氯化铝混合,用氢气还原制得高纯度硅;氯化法是将硅和氯气在高温下反应,生成四氯化硅,再用氢气还原。
两种工艺均需采用高温反应,而氧化-还原法所需的氯化铝较易获得,工艺简单,成本低,因此更为广泛地应用于工业生产中。
提纯方式主要有:精馏法、固体吸附法。
精馏法原理:因为四氯化硅常温下是液体,沸点不高,容易挥发,可以用分馏的方法把它分离出去。
吸附法:基于化合物中各组分化学键极性来吸附分离。SiCl4是无电偶极矩的对称分子。
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