国产光刻机相比国外的光刻机落后还是比较大，据悉我国的光刻机技目前推进到28纳米，而荷兰光刻机己经到2纳米，随着中科技这几年迅速发展会快速缩小差距。
现在国产光刻机的水平已经进入了世界先进行列，我们购进了一些芯片和引进了一些先进生产技术，等于弯道超车，已经进入了光刻机的前十名，
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