光刻机工厂什么原理（光刻机工厂原理通俗易懂）

光刻机是一种半导体制造设备，其工作原理是利用UV光束将芯片设计图案投射到光刻胶层上，然后通过化学反应将图案转移到硅片上。光刻机工厂是指生产光刻机的厂家。其中，光刻机的核心部件是曝光机，包括光源、投影镜头、光刻胶和控制系统等。目前，光刻机的分辨率已经达到了纳米级别，为半导体工业的发展提供了强有力的支撑。