5nm光刻机是一种先进的半导体制造设备,用于制造芯片。光刻机通过使用紫外光照射光刻胶,将芯片设计图案转移到硅片上。5nm表示光刻机可以实现最小特征尺寸为5纳米,这意味着它可以制造更小、更高密度的芯片,提供更高的性能和更低的功耗。5nm光刻机的出现对于推动科技发展和满足日益增长的计算需求具有重要意义。
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