光刻机是谁发明（光刻机是哪个国家人发明的）

1822年法国人Nicephore niepce（尼埃普斯）发明了光刻机，起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。

尽管光刻机发明的时间较早，不过在其发明之后，并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大的区别，在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中最为关键的材料之一。

如今，光刻机已经成为半导体生产制造的主要生产设备，也决定了整个半导体市场水平工艺的象征。