pvd镀膜是怎样的工艺（pvd真空镀膜工艺流程介绍）

PVD（物理气相沉积）是一种技术，可以在金属基材或其他基材表面沉积一层蒸发薄膜。其原理是将物质放入真空容器中，用电子离子打击物质的原子产生离子化，使之成为尘埃分子，再通过重力，各种能量或电场的作用，使其形成一层覆盖在基材表面上的薄膜，实现沉积。