光刻是利用光化学反应原理把事先制备在掩模板(mask)上的图形转移到衬底上的过程。
聚焦深度(depth-of-focus,dof)是衡量光刻工艺窗口的重要参数,它标志了曝光系统成像的质量和晶圆表面位置关系。
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