一般用三甲基氯硅烷都比较活泼,易上。具体反应条件是:无水CH2Cl2做溶剂,无水三乙胺做碱,加入三甲基氯硅烷即可。一般反应进行的很快,同时产率也不错。
但是该保护试剂有一个致命的弱点就是易上易脱,保护基上去后怕水(包括空气中的水)、怕酸、怕硅胶(既,不可上柱),所以我们用三甲基氯硅烷做保护基的时候,都是完成保护的同时立即进入下一步的反应,待下一步的反应结束的时候,保护基的任务也就完成了,这时再一起进行后处理,在这一后处理的过程中,三甲基氯硅烷也会掉下,从而完成去保护。所以,如果楼主希望该羟基被保护的久一点的话,不妨尝试使用三乙基氯硅烷(如果不会引起较大位阻)