请问PVD的工艺是什么（pvd有哪两种工艺各有什么特点）

PVD即物理气相沉积技术，是利用高能离子轰击靶材产生蒸发物质，在真空环境下将其沉积在基材表面的一种表面处理技术。

其优点是具有高附着力、高硬度、高耐磨损、高耐腐蚀性、高温稳定性等特点，可用于改善材料表面性能，提高其使用寿命。应用广泛，如在电子、光电、航空航天、汽车、医疗器械等领域都有着重要的应用。

根据查阅网上信息得知，pvd工艺指的就是真空离子镀膜工艺。

PVD 技术是目前国际上科技含量高且被广泛应用的离子镀膜技术，它具有 镀膜层致密均匀、附着力强、镀性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点。