光刻机五大组成部分（顶级光刻机都有哪些部件）

其实大部分光刻机组成都是一样的，一般分为：照明系（光源+产生均匀光的光路），STAGE（包括RETICLE STAGE和WAFER STAGE)，镜头（这个是光刻机的核心），搬送系（wafer handler+ reticle handler)，alignment （WGA, LSA, FIA)。

另外半导体的工作温度是23度，要保证wafer在恒温和无particle的环境，一个chamber是必须的。