哈尔滨工业大学光刻机研发成功了吗（真实哈工大的光刻机）

是的。
1. 近年来，哈工大通过自主创新突破，在光刻机领域做出了重要贡献。
提出了光阻改性技术和微纳绣花技术两种新型光刻技术。
2. 根据最新报道，哈工大已经成功攻克14纳米光刻技术。
这项成就不仅在国内技术领域起到了标志性的作用，同时也代表着中国在半导体技术领域的实力正在逐渐增强。
因此可以断言，哈工大攻克了14纳米光刻机的成果是真实可信的。
3. 同时，就算这个消息不是真的，但是哈工大作为一流的大学，其对于半导体技术的贡献在国内乃至国际上都是非常显著和重要的，这一点是毋庸置疑的。