光刻机是谁先提出来的（光刻机是哪个人设计出来的）

光刻机的发明者是美国物理学家肯·汤普森（Kenneth Thompson）和罗伯特·柯尔（Robert Cooley）。

1965年，肯·汤普森和罗伯特·柯尔在贝尔实验室共同发明了第一台光刻机，并于1968年获得了相关专利。这台光刻机使用了一种称为掩膜的光学元件，将电路图案通过光学投影转移到硅片上。这项技术的发明对半导体产业的发展产生了重要影响，也为微电子学的发展奠定了基础。

光刻机最早由美国贝尔实验室的Willis Lamb和Ernest O. Lawrence于1950年代提出。光刻机是一种用于制造集成电路的关键设备，通过使用光源和光掩模将图案投射到光敏材料上，实现微米级别的图案转移。随着半导体技术的发展，光刻机在电子工业中起到了重要的作用，成为现代电子设备制造的关键工具之一。