光刻胶什么用途

光刻胶，又称光致抗蚀剂，具有光化学敏感性。

它的用途是在光的照射下溶解度发生变化，一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上，曝光烘烤后成固态，它可以实现从掩膜版到基片上的图形转移，在后续的处理工序中保护基片不受侵蚀，是微细加工技术中的关键材料。

使用领域：印刷电路板、液晶显示器、半导体集成电路、是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。