区别是原理不同,膜的粘附性及结合的效果也不同,食用的材料也不同。
蒸发镀利用高能电子束轰击靶材,使材料表面产生很高的温度,由固态直接升华到气态沉淀到工件表面所形成的薄膜,主要运用在光学方面。
溅射镀是高能离子轰击靶材,使靶材表面原子飞翼出来的过程称溅射。
蒸发镀膜的粘性较差,但膜的均匀性好溅射镀膜溅射能量大和基底的粘附性也好,但是膜会有颗粒感,就是均匀性稍差。
区别是原理不同,膜的粘附性及结合的效果也不同,食用的材料也不同。
蒸发镀利用高能电子束轰击靶材,使材料表面产生很高的温度,由固态直接升华到气态沉淀到工件表面所形成的薄膜,主要运用在光学方面。
溅射镀是高能离子轰击靶材,使靶材表面原子飞翼出来的过程称溅射。
蒸发镀膜的粘性较差,但膜的均匀性好溅射镀膜溅射能量大和基底的粘附性也好,但是膜会有颗粒感,就是均匀性稍差。
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